ケルセチン・フラボノイド 論文・文献データベース

超分子ナノシステムにてルチンを局所適用する

Supramolecular nanosystems for rutin topical application

要旨:
比率1:4のルチンとβ-シクロデキストリンより包接複合体を合成し、薄膜水和法と超音波照射によりリポソームに封入した。得られたリポソーム製剤のラジカル消去活性は、フリーのルチンやルチンのみ封入したリポソームに比べて向上した。カルボポールもしくはキサンガムを用いてリポソーム製剤をゲルに加工して、皮膚塗布を可能にした。健康な被験者におけるパッチテストにて、リポソーム製剤ゲルの皮膚耐性を確認した。